光催化氧化設(shè)備降解污染物是利用這些電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分離，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。等離子體反應(yīng)區(qū)富含很高的物質(zhì)，如電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)。

UV光催化氧化設(shè)備工作需要注意的問(wèn)題：

一、電控及自控是廢氣處理工程系統(tǒng)的指揮，所以電控原理設(shè)計(jì)要簡(jiǎn)潔。電氣元件要。應(yīng)有良好的工作環(huán)境。

二、光催化氧化設(shè)備選型適合和，這為達(dá)標(biāo)排放奠定了基礎(chǔ)。因?yàn)閺U氣的成份繁多，處理設(shè)備的品質(zhì)直接影響生產(chǎn)運(yùn)行和設(shè)備凈化效果。

三、廢氣通常是易燃易爆、不好的氣體，在設(shè)計(jì)中要素為原則。所以揮發(fā)性物的濃度指標(biāo)爆炸下限1/4值以下運(yùn)行。有經(jīng)驗(yàn)的設(shè)計(jì)師會(huì)考慮到突發(fā)性濃度揮發(fā)。如生產(chǎn)商工藝多個(gè)地區(qū)投料失誤，生產(chǎn)線溫度或壓力參數(shù)異常等均要有應(yīng)急控制和措施。在化工行業(yè)，這個(gè)問(wèn)題尤為重要。

四、所有光催化氧化設(shè)備功能不是萬(wàn)全的，治理廢氣的針對(duì)性不錯(cuò)。因此，有些廢氣中含有顆粒物、鹵素廢氣、重金屬等化合物，對(duì)光催化氧化設(shè)備均有干擾，甚至破壞處理效果。所以，在進(jìn)入光催化氧化設(shè)備前，把此類化合物進(jìn)行的凈化除去。

適用于大風(fēng)量低濃度的廢氣治理，適用于電子、化工、輕工、橡膠、油漆、涂裝、印刷、機(jī)械、船舶、汽車、石油等行業(yè)廢氣經(jīng)凈化器進(jìn)風(fēng)口導(dǎo)入活性炭廢氣吸附設(shè)備。

光催化氧化設(shè)備安裝常見(jiàn)注意要點(diǎn)：

一、為確定凈化設(shè)備的正常運(yùn)行，故有專人負(fù)責(zé)管理，應(yīng)經(jīng)常檢查風(fēng)機(jī)、水泵運(yùn)行是否正常，液位是否正常，吸收液濃度是否在規(guī)定范圍內(nèi)等等。如發(fā)現(xiàn)問(wèn)題應(yīng)及時(shí)解決。

二、為確定凈化效果，貯液箱內(nèi)循環(huán)液濃度當(dāng)廢氣為酸性時(shí)，一般應(yīng)保持氫氧化鈉（NaOH）濃度在2~6%范圍內(nèi)，當(dāng)洗滌堿霧時(shí)：應(yīng)保持循環(huán)液堿濃度≤15%。所以，凈化塔循環(huán)液應(yīng)根據(jù)實(shí)際進(jìn)行定期換。

三、風(fēng)機(jī)與水泵開(kāi)啟操作：開(kāi)機(jī)時(shí)先開(kāi)風(fēng)機(jī)，后開(kāi)水泵；關(guān)機(jī)時(shí)先關(guān)水泵，后關(guān)風(fēng)機(jī)。

四、凈化塔、風(fēng)機(jī)安裝時(shí)要按標(biāo)準(zhǔn)、按順序組裝，風(fēng)機(jī)安裝時(shí)應(yīng)嚴(yán)防雜物掉入，以免損壞葉輪。凈化塔安裝完畢后，在試車之前清洗塔內(nèi)污物。

五、用戶應(yīng)進(jìn)行混凝土基礎(chǔ)施工，基礎(chǔ)的安裝面應(yīng)確定在同一水平面上，允許誤差不大于5mm。凈化塔排風(fēng)管可采用井架式固定，底腳與預(yù)埋鋼板焊接固定或預(yù)埋螺栓固定。凈化塔一般可不考慮固定。配套玻璃鋼風(fēng)機(jī)一般設(shè)計(jì)為鋼架減振臺(tái)座式，故混凝土基礎(chǔ)亦只要確定安裝面水平即可。

六、廢氣凈化塔排風(fēng)管、井架、風(fēng)機(jī)等金屬支架應(yīng)每年進(jìn)行處理，以免影響使用。

七、安裝時(shí)注意：因一般玻璃鋼為易燃物品，故安裝及維修過(guò)程中，應(yīng)嚴(yán)禁使用明火。

光催化氧化設(shè)備占用空間小，電子能量高，自動(dòng)測(cè)試系統(tǒng)可以自動(dòng)啟動(dòng)和過(guò)程操作參數(shù)檢測(cè)系統(tǒng)，如果有異常等離子清洗機(jī)在操作的過(guò)程中，設(shè)備會(huì)自動(dòng)停止運(yùn)行，和報(bào)警顯示失敗，離子清洗機(jī)設(shè)備操作。

光催化氧化設(shè)備低溫等離子體降解污染物是利用這些電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。等離子體反應(yīng)區(qū)富含的物質(zhì)，如電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。

光催化氧化設(shè)備采用全自動(dòng)控制觸控板，操作簡(jiǎn)單，溫度不高，安裝調(diào)試方便。低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。光催化氧化設(shè)備放電過(guò)程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。