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uv光催化氧化設備采用我國上較技術理念,通過技術人員長期的試驗研制出的,具有自主知識產權的環(huán)保凈化產品可分解工業(yè)廢氣中物質,并能達到脫臭、凈化效果,經分解后的工業(yè)廢氣,可達到化排放,不產生二次污染,同時達到病菌的作用。
uv光催化氧化設備采用納米紫外線破壞、分解大分子鏈為小分子鏈,再利用臭氧和羥基自由基氧化、催化劑進行催化氧化,使物變?yōu)樗投趸迹赃_到去除物的目的。
uv光催化氧化設備工作原理
半導體光催化劑大多是n型半導體材料(當前以TiO2使用廣泛)都具有區(qū)別于金屬或絕緣物質的特別的能帶結構,即在一個價帶和導帶之間存在一個禁帶。
由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區(qū)域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發(fā)生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有的氧化性,能將絕大多數(shù)的物氧化至產物CO2和H2O,甚至對一些無機物也能 分解。
uv光催化氧化設備性能優(yōu)勢
1、除惡臭:能去除揮發(fā)性物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效果超過我國1993年頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。
2、無需添加任何物質:只需要設置相應的排風管道和排風動力,使惡臭/工業(yè)廢氣通過本設備進行脫臭分解凈化,無需添加任何物質參與化學反應。
3、適應性強:GY-系列惡臭氣體(工業(yè)廢氣)UV光解廢氣凈化設備可適應,大氣量,不同工業(yè)廢氣物質的脫臭、凈化處理,可每天24小時連續(xù)工作,運行穩(wěn)定。
4、運行成本低:GY-系列惡臭氣體(工業(yè)廢氣)UV光解廢氣凈化設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查,本設備能耗低,設備風阻<50pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。
5、設備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等條件,設備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。
6、 材料制造:、蝕,設備性能 穩(wěn)定,采用不銹鋼材質,設備使用壽命在十五年以上。
7、認證產品:設備具有 、特性,已通過我國電器產質量監(jiān)督檢驗中心的Ex合格認證(證書編號:CNEx13.0792X),能廣泛應用于采油(氣)田、石油化工、制藥等要求高的行業(yè)。
uv光催化氧化設備技術參數(shù)
uv光催化氧化設備應用
涂料廢氣處理,噴漆廢氣處理,飼料行業(yè)廢氣處理,油墨生產廢氣處理,注塑廢氣處理,吹膜廢氣處理,塑料造粒廢氣處理,家具廠廢氣處理,化工廢氣處理,制藥廠廢氣處理,食品加工廢氣處理,香精香料廢氣處理,印刷廢氣處理。
uv光催化氧化設備案例
項目:陜西印刷有限公司廢氣治理工程
主要成分:油墨及烤箱內散發(fā)的高溫廢氣;
處理風量:10000m3/h;
設備配置:GY-TQ10000型UVuv光催化氧化設備一臺;
處理標準:執(zhí)行《惡臭污染物排放標準》(GB14554-93)二級標準及陜西省地方標準《大氣污染物排放限值》(DB4427-2001)的二級排放標準。